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VBL No.
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ARIM No. |
装置名・メーカー・型番 | 設置場所 | 料金 yen/hour |
写真 |
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1 |
227 | 電界放出型走査電子顕微鏡・日立・S5200 |
1F 102 |
1,800
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〇 |
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２
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228 |
電界放出型走査電子顕微鏡・日立・S4300
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1F |
2,000 |
〇 |
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3
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- | ディジタルマイクロスコープ・ナノシステム㈱・Focus-3D |
1F CR2 |
0 | 〇 |
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4
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226 |
RIEエッチング装置・サムコ・RIE-10NR
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1F CR1 |
1,300 | 〇 |
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5
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229 | ECRスパッタ装置・アフティ・AFTEX-3420 |
1F CR1 |
1,500
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6
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223 | コンタクトアライナ・共和理研・K-310P100S ※フォトリソ |
1F CR2 |
1,000 | 〇 |
| 7 | 224 | EB蒸着装置・アルバック・EBX-10D |
1F CR1 |
1,500 | 〇 |
| V9 | - | 原子間力顕微鏡・Veeco・ナノスコープⅢa | 2F 204 |
500 | 〇 |
| V10 | - | 液中原子間力顕微鏡・Agilent・5500SPM |
2F 204 |
500 | 〇 |
| V11 | - | アッシャー・ヤマト科学 | 1F CR1 |
0 | 〇 |
| V12 | - | 顕微ラマン分光器・RENISHAW・inVia Reflex |
2F |
1,300 | 〇 |
| V13 | - | X線回折装置・リガク・SmartLab. | 2F 203 |
1,400 | 〇 |
| 14 | 225 | ICPエッチング装置・アルバック・CE-3100I | 1F CR1 |
2,100 | 〇 |
| 15 | 222 | レーザーリソグラフィ装置・ハイデルベルグ・DWL66FS | 1F CR2 |
1,500 | 〇 |
| V16 | - | 超高真空蒸着装置・シンク・ND-S4401 | 1F 102 |
500 | 〇 |
| V17 | - | 大気下イオン化ポテンシャル装置・理研計器・AC-2 | 2F 203 |
900 | 〇 |
| V18 | - | 段差計・アルバック・Dektak150 | 1F CR2 |
1,100 | 〇 |
| V19 | - | 非接触膜厚測定装置・NanoSpec | 1F CR2 |
0 | 〇 |
| V20 | - | 紫外線オゾンクリーナー | 1F CR2 |
0 | 〇 |
| V21 | - | 有機薄膜作製装置 | 2F 212 |
- | 〇 |
| V22 | - | 白色干渉顕微鏡・ニコン・BW-S507 | 2F 204 |
100 | 〇 |
| V23 | - | イオンコーター | 1F 106 |
0 | 〇 |
| V24 | - | オスミウムコーター | 1F 106 |
0 | 〇 |
| 25 | 261 | 段差計・小坂研究所・ET200A | 1F CR2 |
1,000 | 〇 |
| - | - | コンタクトアライナ・ミカサ・MA-10B | 1F CR2 |
900 | 〇 |
| 2018年4月1日より、顕微ラマン分光器、X線回折装置、抵抗加熱蒸着装置の料金を改定しました |
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| 2018年4月1日より、クリーンルーム利用料を徴収することとしました。但し、ナノプラットフォーム装置やVBL装置を予約して使用する方は、装置利用料金に含まれていますので別途徴収することはありません。予約装置以外の設備を利用する方は前室にある利用者ノートにご記入ください。後日徴収します |
| SEMがウイルスに感染すれば多く方に迷惑をかけることになりますので、USBメモリは必ずウイルスチェックをしたものを使用してください。 VBL1階にDELLのパソコンがありますので、ウイルスチックに使って下さい（2012.10.10） |
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| EB蒸着装置の修理が完了しました（20210317） |
| レーザーリソグラフィの圧縮空気ですが、次の利用者がいない場合はバルブを閉めてください。PCと描画装置の電気的接続不良のときは下記の装置説明書のDWL66FS不具合とその解決方法を参照して下さい |
| ECRスッパタ装置のメンテナンスを行い、Siターゲットを新品に取替えましたので、膜リークの問題はほぼ解消しました（2011.9.14） |
| 装置を使用したいときは、まず装置運用責任者に装置利用が可能か問合せください。運用責任者の許可を得た後、利用申請書をＶＢＬ事務室に提出しＶＢＬ長の承認を得てください。また、利用者カードの申請書、実験装置利用申請書をＶＢＬ事務室に提出して下さい（運用責任者はＶＢＬ事務室に問合せください）。 |
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| 装置の利用について、平成１８年10月1日より新たな利用システムで運用することになりました。HPの予約時間で使用料を負担していただきますので、予約時間を間違えないようお願いします。予約の変更は前日までとしますが、他のユーザの迷惑にならないよう留意して下さい。当日、予約時間を大きく下回る時間で装置使用が終わった場合で時間変更を希望するときは、氏名、研究室、利用時間帯、変更理由をEmail（office@vbl.nagoya-u.ac.jp)で送って下さい。装置運用責任者の使用許可を得て下さい。許可を得た利用者にはパスワードをお知らせします。 |
| 実験装置取扱い講習会等に参加して装置の取扱いを習得して下さい。 |
| SEM5200はSEM講習会参加者以外は使用できません。 |
| アッシャーとUVドライクリーナーは、しばらくは無料とします。予約なして使用可能ですが、事前予約の方を優先とします。 |
| 実験施設を使用する人は、VBL安全講習会に参加して下さい。また、クリーンルームを使用する人はクリーンルーム講習会に参加して使用方法を習得して下さい。 |
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| クリーンルーム利用者は入退出確認板へのマグネット表示を行って下さい。 |
| 使ったものは元に戻すなど室内の整理整頓をお願いします。 |
| 作業後は掃除するなど、クリーンルーム環境の維持に努めて下さい。 |
| 空調機器、照明の切り忘れの無いよう注意してください。 |
| 夕方以降クリーンルーム内に人がいないときは空調機の昼・夜切替を行って下さい |
| ドラフト内に空瓶を放置しないよう注意して下さい。 |
| アセトンの保管庫を前室に設置しました。 |
| ＥＢ蒸着装置 |
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| 電子顕微鏡Ｓ４３００ |
| 段差計 |
| ICPエッチング装置 |
| RIEエッチング装置 |
| ECRスパッタ成膜装置 |
| レーザーリソグラフィ (DWL66FS) |
| DWL66FS不具合とその解決方法（PCと描画装置との電気的接続不良） |
| DWL66FSの直描条件について |
| オージェマイクロプローブ |
| アッシング装置 |
| 膜厚計 CRTM-6000G マテリアル設定 簡易版 |
| 大気中光電子分光装置 AC-2 簡易版 |
| AFM |
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| Dektak150 |
ＳＥＭサーバ(108)：ルータの下に入れましたので外部から見ることができません。Ｓ４３００，Ｓ５２００，ＡＦＭ，102ＤＥＬＬも同じルータ下にしましたのでその間のファイル転送はできると思います。102ＤＥＬＬもファイル転送にお使いください。（2007.1.10）。
ＶＢＬ１階無線ＬＡＮ：ＷＥＰを更新しました。１階開発室、クリーンルームで利用したい人は事務室へ問い合わせください（2007.1.10）。
装置責任者
Chong Heajong （cheong.heajeong.p5「@」f.mail.nagoya-u.ac.jp ）
Chong Heajong （cheong.heajeong.p5「@」f.mail.nagoya-u.ac.jp ）