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電子線援用ナノプロセスシステム

研究テーマ

● 真空一貫基本技術の研究

● 電子線援用微細加工技術の研究

● 量子ナノ構造（量子箱・細線・井戸等）の形成・評価技術の研究

● 量子ナノ構造内量子現象解明の研究

● 量子ナノ構造のデバイスへの応用の研究

● 原子層制御スーパーヘテロエピタキシャル技術に関する研究

概要

　このシステムは、次世代の高次機能ナノエレクトロニクスデバイスを実現するための主要技術である、高次機能ナノプロセス技術を開発するために用いられます。このシステムは、

(1) 電子線援用エッチング装置

(2) 分子線結晶成長装置

の二つの主要装置からなり、これら二つの装置は超高真空トンネルにより相互に接続されています。

　電子線援用エッチング装置は、直径を２nm以下までに絞った電子線と反応性ガスにより、超高真空中で10nm以下の微細なパタンを形成することが可能です。

　分子線結晶成長装置は、超高真空の成長室・加熱処理室・試料導入室とにより構成されており、品質の高い1nm以下の極薄膜を成長することが可能です。

二つの装置が真空で接続されているため、ナノスケールの微細パタンの形成と薄膜成長を、大気に曝すことなく超高真空中で繰り返すことが可能であり、高品質のナノ構造の実現が可能です。