ナノテクノロジープラットフォーム

名古屋大学微細加工プラットフォーム

ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー

文部科学省ナノテクノロジーネットワーク事業は平成24年3月31日をもちまして終了しました。
これまでのご利用ありがとうございました。平成24年7月2日から文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業が始動しました。

本年度のご利用を希望される方は下記「ナノテク微細加工プラットフォーム利用申請書」にてご申請ください。

装置利用について

はじめに，利用したい装置の担当者に電子メール等で研究内容等を連絡し，実施できるか協議して下さい．また，技術相談も行っています．

利用申請書について

実施可能な場合は，ナノテク微細加工プラットフォーム利用申請書（様式6）をＶＢＬ事務室に提出しＶＢＬ長の承認を得て下さい．年度ごとの申請が必要です。継続利用される方はご注意下さい。

成果報告書について

　本支援は成果を公開することが大前提となっています．年度末には成果報告書を作成してい頂くことになります．
　

利用装置及び使用料について

　　料金は学内の申請者が自ら操作する場合の金額です．その取扱については別途協議します．
　　その他の装置利用につきましても，ご相談下さい．　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　担当：岸本　茂　kishimoto@vbl.nagoya-u.ac.jp

	分子線エピタキシー装置 エイコーエンジニアリング社製 ｋセル8系統：Ga,As,In,Al,Si,Be 対応基板サイズ：最大2インチ RHEED付 13,300円/日		高分解能走査型電子顕微鏡 日立ハイテクフィールディング社製Ｓ5200　加速電圧0.5kV〜30kV 　分解能0.5nm(30kV)　倍率〜2,000,000　 最大試料サイズ5mmX9.5mm 1,100円/時間
	レーザーリソグラフィ Heidelberg Instruments社製　DWL66FS 最小描画サイズ：0.6μm 最大描画サイズ：200mmX200mm 直描およびガラスマスク作製 700円/時間		フォトリソグラフィ 共和理研社製・K310P100S、 最大2インチ基板、マスク3インチ、最小パタンサイズ：2μm 波長　365nm 400円/時間
	ICPエッチング装置 アルバック社製　CE-300I 化合物エッチング 対応基板サイズ：最大6インチ プロセスガス：Cl2 1,000円/時間		RIEエッチング装置 サムコ社製　RIE-10NR シリコン系エッチング 対応基板サイズ：最大8インチ プロセスガス：CF4,Ar,O2 800円/時間
	ＥＣＲスパッタ成膜装置 MESアフティ社製　AFTEX-3420 対応基板サイズ：最大3インチ 酸化膜、窒化膜用 800円/時間		電子ビーム蒸着装置 アルバック社製　EBX-10D 最大投入電力：5kW るつぼ数4、 ハースライナー使用 600円/時間
	段差計 アルバック社製　Dektak150 触針式 垂直分解能：10nm 測定距離：50μm〜55mm		クリーンルーム設備 ドラフトチャンバー　7台 超純水設備　18MΩ・cm オーブン　2台 ホットプレート4台 クリーンウエア・シューズ